分辨率
高真空模式(二次電子)
低真空(背散射電子)
(低真空二次電子) |
1.2nm(30kV); FIB <5nm(30kV)
2.0nm(30kV)
1.5nm(30kV)
|
工作真空
低真空模式
電子槍真空
離子槍真空 |
7-150Pa
<3×10-7 Pa
<5×10-6 Pa |
電子光學工作模式 |
分辨率/景深/視野/大視野/電子衍射花樣 |
放大倍率 |
2x-1,000,000x(FE-SEM); 150x-1,000,000x(FIB) |
加速電壓 |
200V至30KV(FE-SEM);0.5KV至30KV(FIB) |
電子槍 |
高亮度肖特基(FE-SEM);液態金屬镓離子源(FIB) |
探針電流 |
2pA至100nA(FE-SEM); 1pA至40nA(FIB) |
掃描速度 |
從20ns/pixel至10ms/pixel,可分段或連續調整 |
聚焦窗口 |
形狀、尺寸和位置連續可調 |
掃描特性 |
動態聚焦,點和線掃描,傾斜校正,實時三維圖像 |
圖象尺寸
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最大可達8192×8192像素,圖象比例可選1:1、4:3或2:1 |
顯微鏡控製 |
通過計算機(鍵盤、鼠標、軌跡球)操作LYRA TC軟件,所以顯微鏡的功能均可
在WindowsTM平台下實現 |
自動程序 |
專利的實時電子束追蹤技術自動最優化電子束,束斑直徑和束流連續可調,自動聚焦&消象散,自動調整對比度&亮度,自動調整掃描速度(根據信噪比),打開/關閉電子槍,電子槍合軸,透鏡&光闌對中,真空控製,加速電壓的補償,灰度級調整
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遠程控製 |
通過TCP/IP |